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    公开号:WO1992009935A1
    申请号:PCT/JP1991/001635
    申请日:1991-11-28
    公开日:1992-06-11
    发明作者:Isao Imamura
    申请人:Canon Kabushiki Kaisha；
    IPC主号:G03F7-00
    专利说明:
    [0001] 明 細 書
    [0002] レジス 卜の除去方法及び装置
    [0003] 発明の分野
    [0004] 本発明は、 光リ ソグラフィ ーに代表される微細加工法に用いられ る レジス トの除去方法及び装置に関する。 本発明のレジス トの除去 方法及び装置は、 特にィ ンク ジエ ツ ト記録へッ ドの製造において効 果的である。 発明の背景
    [0005] 光リ ソグラフィ 一等の微細加工法においては、 微細なパタ—ンを 形成するために感光性樹脂などからなるレジス ト （通常感光性を有 するこ とから 「フ ォ ト レジス ト」 と称される こ とが多いが、 以下 「レジス ト」 と称することとする） が利用されている。 例えば、 半 導体素子を製造する場合には、 レジス トをウェハなどの基材に塗布 し、 これに対して露光を施した後、 現像工程やその後の剝離工程に おいてレジス トの可溶部分を除去することが行われる。
    [0006] 従来からレジス トの除去方法としては、 レジス ト除ま用液 （光リ ソグラフィ —の分野では通例 「現像液」 或いは 「剝離液」 と呼ぶが 以下 「除去液」 と総称する） を基材上のレジス トにスプレーして基 材からレジス トを除去するスプレー方式、 或いはレジス トが設けら れた基材を除去液に浸漬して基材上のレジス トを除まする浸瀆方式 などが採用されている。 また、 必要に応じて除去液に対して超音波 振動処理、 加熱処理、 攪拌処理、 加圧循環処理等の、 レジス 卜の除 去を促進するための処理が併用されることもある。 このようにして レジス トの除去を終えた後には通例リ ンス液を用いて基材を洗浄し- 次いで基材を乾燥させることが行われる。
    [0007] このような従来のレジス トの除去方法には、 次に述べるような課 題があつた。
    [0008] 即ち、 形成するパターンが微細である程レジス トの除去に時間が かかるのが一般的であるが、 この時間を短縮するためにレジス トの 溶解度の高い除去液を用いると、 除去すべき部分以外のレジス 卜が 膨澗して隣接するレジス トパターン間にブリ ッジ、 蛇行、 もたれ合 い、 裾広がり等を生じることがあった。 そしてひどい場合には、 除 去すべき部分以外のレジス トが溶解してしまつてパターン幅が狭く なることもあり、 いずれにして 所望の寸法及び形状を有する精度 の高いレジス トパター ンを得ることが困難であった。
    [0009] 一方、 除去時間の短縮を計らずに、 溶解度のさほど高く ない除ま 液を用いて比較的長時間をかけてレジス トの除去を行えば、 それな りの精度を有する微細なバタ—ンを形成することが一応可能ではあ るが、 その代わりにかなり大量の除去液が必要となる。 更に、 特に 細部においてレジス 卜の残渣の発生といつた除去不足や一旦除去さ れたレジス トがシミ状に再付着してしまう といつた除去不良等の問 題が生じることがあり、 この場合には後工程に悪い影響を及ぼすこ ととなつた。 これらの課題は、 前述したレジス トの除去を促進する ための処理を併用しても、 従来技術では十分には解決できなかった。
    [0010] ところで、 ィ ンクジヱッ ト記録へッ ドを製造する主たる有効な方 法の一つとして、 U S P 4 , 6 5 7 , 6 3 1や U S P 4 , 7 7 5 , 4 4 5等 に記載されたレジス トの除 ½を伴う ところの、 第 4 ( A ) 図〜第 4 ( F ) 図に模式的に示された内容の方法がある。 この方法の詳細に ついては後述することとするが、 この方法においては、 先ずイ ンク を吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生 体 4 1が設けられた第 4 ( A》 図に示された基板 4 0の上に、 第 4 ( B ) 図に示されるようにレジス トとなる例えばポジ型感光性樹脂 層 4 2を設ける。 次に、 該感光性樹脂層 4 2に対してパターン露光 を施し、 該感光性樹脂層 4 2にイ ンク の通路に対応する第 4 ( C ) 図に示された潜像 4 3 aを形成する。 しかる後、 感光性樹脂層 4 2 に対して現像を施し、 第 4 ( D ) 図に示されるように感光性樹脂層 4 2のパターユングを行う。 次に、 第 4 ( E ) 図に示されるように、 バタ一ン状の感光性樹脂層 4 3を覆うように、 イ ンクの通路の壁を 形成する材料 4 4 を設ける。 その後、 パター ン状の感光性樹脂層 4 3に対して露光を施してからそれを除去し、 第 4 ( F ) 図に示さ れたようなィ ンクの通路 4 6を形成する。 この工程と共に、 或いは この工程の後で、 イ ンクの通路 4 6にイ ンクを供給するための供給 口 4 5を形成する。 4 6 a はィ ンクの通路 4 6に連通しィ ンクを吐 出する吐出口である。
    [0011] 概略以上述べた内容の方法によれば比較的高い信頼性を備えたィ ンク ジヱ ッ ト記録へッ ドが製造でき、 こう したイ ンク ジヱ ッ ト記録 へッ ドを具備するィ ンクジヱ ッ ト記録装置が商品化されている。
    [0012] ところでこう したイ ンクジ ッ ト記録装置であつても、 記録速度 を一層向上せしめると共に記録画像の画質を一層向上せしめること が社会的要求として存在する。 こう した社会的要求を満足させるこ とができる理想的なィ ンクジュ ッ ト記録へッ ドの一つは、 基本的に はィ ンクの吐出口をでき得る限り多数高密度に備えているものと言 う ことができる。
    [0013] ところが、 このような高密度マルチ吐出口を有するイ ンクジヱ ッ ト記録へッ ドを提供するについては、 次に述べるような事項が解決 を要する課題として顕現してきた。 即ち、 吐出口が高密度に多数配 設されればされる程、 そのようなィ ンク ジヱ ッ ト記録へッ ドを製造 する際のレジス トの除去に伴う ものと思われる原因によって、 吐出 口からのィ ンクの総合的な吐出特性が劣化する傾向があるという課 題である。
    [0014] このような課題は、 吐出口の数が比較的少な く それらの配設密度 があまり高く ないヘッ ドの場合には、 さほど問題視されな く てそれ なりに妥協できるところではあるが、 吐出口が多数、 高密度に配さ れるに従って軽視し難い問題となる。 とりわけ、 記録がなされる被 記録部材の記録領域の全幅にわたつて例えば数千個といつた多数、 高密度に吐出口が設けられ、 該多数の吐出口に対応してエネルギー 発生体が多数、 高密度に基板に配されたいわゆるフルラィ ン型のィ ンクジ ッ ト記録ヘッ ドにおいては、 このことは顕著な技術課題と なる。 このように、 上述したレジス トの除去に関わる種々の課題は ィ ンクジュ ッ ト記録へッ ドの製造においてレジス トの除去を行う際 に一層際立って存在する。 発明の要約
    [0015] 本発明の主たる目的は、 前述した種々の技術課題を解決し、 短時 間で効率よ く レジス トの除去を行うことができ、 しかもレジス 卜が 除去された面の清浄性においても優れたレジス 卜の除去方法及び装 置を提供することにある。
    [0016] 本発明の他の目的は、 特に近年のバタ一ンの微細化に伴って顕現 しがちなレジス トの除去に関わる種 の課題を解決し、 寸法及び形 状において高い精度を有するパターンを得ることができるレジス ト の除去方法及び装置を提供することにある。
    [0017] 本発明の更に他の目的は、 除去液の淸費も比較的少なくて済み、 しかも他の構成部材に悪影響を及ぼすことのないレジス 卜の除去方 法及び装置を提供することにある。
    [0018] 本発明者は、 前述した技術課題を解決してこれらの目的を達成す ベく 、 詳細なる調査検討を行った。 その結果、 上述したスプレー方 式にしても、 上述した浸漬方式にしても、 或いはこれらの除去方式 に上述したレジス 卜の除去を促進するための処理を併用したとして も、 いずれにしても実質的にレジス トと除去液という二者の接触関 係に基づく相互作用に過ぎず、 こう した技術手段では上述した技術 課題を十分に満足のいく まで解決す ことは難しいことが判明して きた。 この点は、 イ ンクジ ッ ト記録へッ ドを製造するために ジ ス トの除去を行う場合には尚更である。 そして、 吐出口が高密度に 多数配設されればされる程、 吐出口に連通する微細なィ ンクの通路 に対する寸法上及び形状上の一層高い精度が要求されるが、 主とし て前述したレジス トの除去に関わる製造上の課題によつて必ずしも 十分な精度を得ることができず、 これに起因して吐出口からのイ ン クの総合的な吐出特性の劣化が引き起こされることがあることが判 明した。 微細な通路での前述したレジス トの除去に関わる課題は、 感光性樹脂層を現像してパターニ ングする現像工程とバター ン状の 感光性樹脂層をィ ンク の通路から抜いて除去する剝離工程とにおい て発生することが想像される。
    [0019] 本発明者は、 これらの点に基づいて更に鋭意研究した結果、 除去 液とガスとの気液混合物をレジス トに噴射することにより、 或いは 除去液とガスとを交互にレジス トに噴射するこ とによ り 、 除去液に よる レジス トの除去作用を飛躍的に増大させることができ、 しかも 除去液による レジス 卜 の除去作用に関わる均一性を極めて高いもの とすることができる知見を得た。
    [0020] 本発明者は、 この知見に基づいて実際にレジス 卜の除去を試みた < その結果、 短時間で効率よ く レジス トの除去を行う ことができ、 し かもレジス 卜が除去された面の清浄性においても従来に較べて優れ た結果を得ることができた。 そして、 寸法及び形状の精度が極めて 高いパター ンを形成することができた。
    [0021] また本発明者は、 前述した知見をィ ンクジュ ッ ト記録へッ ドの製 造に実際に適用してみた。 その結果、 寸法及び形状の精度が極めて 高いィ ンクの通路を有するィ ンクジヱ ッ ト記録へッ ドを得るこ とが できた。 更に本発明者は、 このイ ンクジュ ッ ト記録へッ ドを装置本 体に装着して、 実際にィ ンクを吐出して記録を行った。 その結果、 得られたイ ンクジヱ ッ ト記録へッ ドは、 イ ンクの総合的な吐出特性 において優れたものであることが判った。
    [0022] こう して得られた知見に基いて更なる研究の結果本発明を完成す るに至った。
    [0023] 本発明により提供されるレジス ト の除去方法の一つの例は、 レジ ス ト除去用液とガス とを混合してレジス 卜に噴射することによって レジス トを除去することを特徴とする。
    [0024] 本発明により提供されるレジス トの除去方法の他の例は、 レジス ト除去用液とガスとを交互にレジス トに噴射するこ とによ ってレジ ス トを除去することを特徴とする。
    [0025] 本発明により提供される レジス ト の除丟装置の一つの例は、 レジ ス ト除去用液とガス とを混合する混合手段と、 該混合手段によって 混合されたレジス ト除去用液とガスとをレジス 卜に対して噴射する 手段と、 を有することを特徴とする。
    [0026] 本発明により提供されるレジス 卜の除去装置の他の例は、 レジス ト除去用液を供給する液供給手段と、 ガスを供給するガス供給手段 と、 前記液供給手段と前記ガス供給手段とを切換えて動作させる切 換え手段と、 該切換え手段の切換えによって前記レジス ト除去用液 と前記ガスとをレジス トに交互に噴射する手段と、 を有することを 特徴とする。
    [0027] 本発明は、 イ ンクジヱ ッ ト記録へッ ドの製造においてレジス 卜の 除去を行うに当たって特に良好に適用される。 イ ンク ジ ッ ト記録 へッ ドがフルライ ン型のものであるときには尚更である。 好ましい態様の詳細な説明
    [0028] 本発明の好ましい態様について、 第 1図を用いて詳述する。 第 1 図は、 本発明の実施態様の一つに係るレジス ト除去装置を示す模式 図である。
    [0029] 第 1図において、 符号 1 はレジス トの除去液 1 aを貯溜するため の除去槽である。 除去槽 1 の内部には、 レジス トを除去すべき基材 2の除去液 1 a内に固定するための固定台 3が設けられている。 ま た、 除去槽 1 には除去液 1 aを循環して再使用するための液取入れ 口 5が設けられている。 液取入れ口 5に接続された管路 8 aには、 除去液 1 aからゴミ等の異物を取り去るためのフィルタ ー 6 と、 除 去液 1 aを循環させ噴射ノズル 4から噴射させるためのポ ンプ 7 と、 管路 8 a の連通の遮断及び開放を行う第 1 の弁 8 とが設けられてい る。
    [0030] 一方、 ガスボンベ 1 0 にガス取入れ口 1 1を介して接続された管 路 9 a には、 管路 9 a の連通の遮断及び開放を行う第 2の弁 9が設 けられている。 符号 1 4 は、 第 1 の弁 8 と第 2の弁 9 との開閉を制 櫛する制御部である。
    [0031] このようなレジス ト除去装置を用いてレジス トの除去を行う本発 明の実施態様の一つに係る レジス ト除去方法について次に説明する , 先ず除去すべき レジス 卜のついた基材 2を固定台 3 に固定した後、 少なく とも基材 2が浸潰するまで除去槽 1 に除去液 1 aを導入する , 制御部 1 4によって第 1 の弁 8を開としてポンプ 7を作動させ、 液 取入れ口 5から管路 8 aを通して除去液を加圧循環させる。 このと き、 制御部 1 4によって第 2の弁 9 も開とし、 ガスボンベ 1 0から 管路 9 aを通してガスを除去槽 1 に導入する。 このようにして除去 液とガスとは管路の結合部 1 2辺りで混合され、 レジス トに対して 噴射ノ ズル 4から気液混合物として噴射される。
    [0032] このような実施態様では、 現像工程やその後の剝離工程において レジス トの除去を短時間で確実に行う ことができ、 除去液の消費も 少なくて済み、 レジス トが膨潤したり溶解したりすることもな く、 パター ン細部での現像不良ゃ剝離不良を防止することができ、 レジ ス トが除去された面の清浄性も高いものとすることができる。
    [0033] さて次に、 本発明の他の実施態様に係る レジス ト除丟方法につい て説明する。 本実施態様では、 除去槽 1 に除去液 1 aを導入するま では先に説明した実施態様と同様に行う。 ポンブ 7を作動させた後 制御部 1 4 によつて所定時間第 1 の弁 8を開とし、 液取入れ口 5か ら管路 8 aを通して除去液を加圧循環させて噴射ノ ズル 4から噴射 させる。 所定時間が経過したら制御部 1 4によって第 1 の弁 8を閉 とすると共に第 2の弁 9を開として、 ガスボンベ 1 0から管路 9 a を通してガスを除去槽 1 に導入する。 更に所定時間が経過したら制 櫛部 1 4によって第 2の弁 9を閉とすると共に第 1 の弁 8を開とし て、 除去液を加圧循環させて噴射ノ ズル 4から噴射させる。 このよ うにして第 1 の弁 8 と第 2 の弁 9 との切換えによつて除去液とガス とが噴射ノズル 4からレジス トに対して交互に噴射される。 除去液 とガスとをレジス トに対して交互に噴射するには、 第 1 の弁 8 と第 2の弁 9 とを共に電磁弁とし、 制御部によってタイマ ー制御できる ようにしておく とよい。 また除去液とガスとの交互噴射の周期は、 0. 1秒乃至 5. 0秒の範囲内であることが実効上好ましい。
    [0034] このような実施態様によれば、 先の実施態様と同様に優れた効果 を奏することができる。
    [0035] 第 3図を用いて本発明の別の実施態様について説明する。 第 3図 ば、 本発明の別の実施態様に係るレジス ト除去装置を示す模式図で ある。 この第 3図において、 第 1図のレジス ト除去装置と同じ部材 には同じ符号を付してその説明を省略することとする。
    [0036] 本実施態様が第 1図のレジス ト除去装置と異なる箇所は、 除去槽 1が密閉空間を形成するものとし、 該密閉空間に接続された真空ポ ンプ 1 3を設けた点である。 この真空ポンプ 1 3を作動することに よって、 除去槽 1 の内部を減圧できるようになつている。
    [0037] 第 1図を用いて説明した実施態様は大気圧の でなされるものと して記載したが、 これらは大気圧より減圧された状態の元でなされ ると一層効果的である。 即ち、 減圧下におかれたレジス トに対して 除去液とガスとを気液混合物として噴射させるか、 或いは減圧下に おかれたレジス トに対して除去液とガスとを交互に噴射させること により、 本発明の効果が一層高い水準をもつて奏される。 レジス ト を減圧下におく にば、 例えば除去すべき レジス トが設けられた基 材を除去液に浸漬し、 その除去液の液面が面する空間をポンプによ つて減圧することによって達成すればよい。 このようにレジス ト を減圧下におく とは、 少なく ともレジス トの周辺領域を減圧された 状態におく ことを意味する。 ここで減圧とは、 大気圧より も低い圧 力にすることであり、 実質的な真空状態にまで減圧する場合も舍む ものである。 除去液の液面が面する空間の滅圧状態での圧力は、 レ ジス トの種類やサイ ズなどの諸条件に応じて適宜決定されるもので はあるが、 4 0 0 m m H g以下として設定されるのが実効上好ま し い。
    [0038] 更に、 第 1図を用いて説明した実施態様は、 連続的な一定の減圧 下で行うのみならず、 減圧状態の圧力を経過時間に応じて変化させ て行ったり、 或いは減圧状態と大気圧状態とを所定の時間間隔をお いて交互に繰り返して行ったりすると、 一層顕著な効果を得ること ができる。 形成すべきパター ン自体の幅やパター ン同士の間隔が小 さい場合などの、 構造的にレジス トが除去されに く い場合には特に 有効である。
    [0039] 加えて、 以上述べた実施態様は、 イ ンクジュ ッ ト記録ヘッ ドの製 造においてレジス トの除去を行うに当たって特に良好に適用される , 即ち、 感光性樹脂層を現像してパターニングを行う第 4 ( D ) 図に 示された現像工程と、 バタ―ン状の感光性榭脂層をィ ンクの通路か ら抜いて除去する第 4 ( F ) 図に示された剝離工程と、 において特 に良好に適用される。 ィ ンクジヱ ッ ト記録へッ ドがフルライ ン型の ものであるときには尚更である。
    [0040] 更にまた、 以上述べた実施態様は、 例えば電気熱変換体が発生す る熱エネルギーによるィ ンクの膜沸騰を利用してィ ンクを吐出する 形態のィ ンクジエ ツ ト記録へッ ドの製造において、 特に剝離工程に 係る レジス トの除去を行うに当たつて極めて良好に適用される。 こ れは、 レジス トの除去を行う際に除去液のみならずガスがィ ンクの 通路に接触しながら通過するので、 膜沸騰をなさしめる例えば電気 熱変換体の発泡面に対していわゆるェ一ジングの作用が施されるか らと想像される。
    [0041] 以上述べた実施態様において用いられる レジス ト としては、 光リ ソグラフィ 一の分野で通常用いられる感光性樹脂を良好なものとし て挙げることができる。 そして以上の実施態様をイ ンク ジェ ッ ト記 録ヘッ ドの製造に適用するに際しては、 レジス トとして第 4 (B ) 図に示されるポジ型の感光性樹脂層を用いるのが好ましい。 ポジ型 の感光性樹脂は、 光の照射によって溶剤に対する溶解性が増加する 樹脂材料なので、 第 4 ( F ) 図に示されるような微細なイ ンク通路 から抜いて除去する剝離工程を一層容易になし得るからである。 こ のボジ型の感光性樹脂としては例えば、 0 —ナフ トキノ ンジアミ ド 類とアルカ リ可溶性フ ノ ール樹脂とを舍有する材料、 ベンゼンジ ァゾニゥム類とアル力リ可溶性樹脂とを舍有する材料などを好まし い材料として挙げることができる。 中でも取扱い性の容易さをも考 盧に入れて、 ポジ型の感光性樹脂をポリエステルなどのシー トに塗 布した 「 O Z A T E C R 2 2 5」 （ ： 商品名、 へキス トジャパン ㈱製） 等を一層好ましいものとして挙げることができる。
    [0042] 実施態様において用いられる除去液としては、 光リ ソグラフィ一 の分野で通常用いられるものを良好なものとして挙げることができ る。 例えば、 水酸化ナ ト リ ウム、 水酸化力 リ ゥム等のアル力 リを舍 む水溶液、 塩酸、 硝酸等の酸を舍む水溶液、 アセ ト ン、 イ ソプロピ ルアルコール、 トリ クロ口エタ ンなどの有機溶剤などを挙げること ができる。
    [0043] 実施態様において用いられるガスとしては、 除去液やレジス トと 反応しないもの、 または反応してもレジス ト除去の実質的な妨げに ならないものが好ましく使用される。 このようなガスとしては例え ば、 ヘリ ウム、 ネオン、 アルゴンなどの不活性ガス、 或いは窒素な どを好ましいものとして挙げることができる。 ガスは比較的小量で も本発明の効果は得られると考えられるが、 除去液とガスとの体積 比を 1 : 1 0 0〜 1 0 0 : 1 の範囲内とするのが実効上好ましい。 また噴射ノズルからの噴射圧力としては、 0.0 1 kg/ en！〜 1 0 kg αίの範囲内とするのが実効上好ましい。
    [0044] 本実施態様をィ ンクジ ッ ト記録へッ ドの製造に適用するに際し て、 特に第 4 ( D ) 図に示されるような微細なイ ンク通路に対応す るパターンを形成する現像工程を行うに際して、 あるいは第 4 ( F ) 図に示されるような微細なィ ンク通路からレジス トを抜いて除去す る剝離工程を行うに際しては、 へッ ドの供給口側から吐出口側へ噴 射がスムーズになされるようにヘッ ドを設置してレジス トの除去を 行うのが好ましい。
    [0045] 尚、 以上述べた実施態様では、 好ましい形態として噴射ノ ズルを 除去液とガスとで共用しているが、 気液経路を夫々別系統にして夫 々専用の噴射ノ ズルを設ける場合であっても、 レジス トに対して前 述したような噴射のされ方がなされるのであれば本発明に包含され る。 また前述したように、 除去液を循環再使用できるようにするこ とが除去液の無駄な消費を抑えるために好ま しいが、 除去液の経路 をガスの経路のような循環させない形態としても構わない。 更に圧 力や流量を調節するために、 液やガスの管路に弁等の各種の機器を 更に適宜設けてもよい。 加えて前述した管路の結合部は、 単に管路 を結合したものであっても、 ガス混合器として独立したものであつ てもよい。
    [0046] 以上の実施態様を利用して製造されたィ ンク ジュ ッ ト記録へッ ド を装着されたイ ンク ジヱ ッ ト記録装置の一例について、 第 5図を用 いて説明する。 第 5図は、 イ ンクジュ ッ ト記録装置の一例の主要部 を示す模式的斜視図である。
    [0047] 第 5図において、 3 2 0 はプラテン 3 2 4上に搬送された記録紙 (不図示） の記録面に対向してィ ンクの吐出口を複数具えた、 記録 液体貯溜部一体構造の取り外し自在力— ト リ ッ ジ型のィ ンク ジエ ツ ト記録ヘッ ドである。 3 1 6 はイ ンクジェ ッ ト記録ヘッ ド 3 2 0を 載置するためのチヤ リ ッジであり、 駆動モータ 3 1 7 の駆動力を伝 達する駆動ベル ト 3 1 8の一部と連結され、 互いに平行に配設され た 2本のガイ ドシャフ ト 3 2 9 A及び 3 2 9 B と摺動可能とされて いる。 これにより、 ィ ンクジヱ ッ ト記録へッ ド 3 2 0 は、 記録紙の 全幅にわたる往復移動が可能とされている。
    [0048] 3 2 6はィ ンクジヱッ ト記録へッ ド 3 2 0からのイ ンク吐出不良 の回復及び予防を行う回復装置であり、 イ ンクジュ ッ ト記録へッ ド 3 2 0の移動範囲の所定箇所、 例えばホームポジショ ンと対向する 位置に配設される。 回復装置 3 2 6 は、 伝動機構 3 2 3を介したモ ータ 3 2 2の駆動力によってイ ンクジエ ツ ト記録へッ ド 3 2 0 の吐 出口のキヤ ッ ビングを行う。 この回復装置 3 2 6 のキャ ップ 3 2 6 Aによるィ ンクジエ ツ ト記録へッ ド 3 2 0 の吐出口のキヤ ッ ビング 動作に関連して、 回復装置 3 2 6に設けられた適宜の吸引手段 （不 図示） による吐出口からのイ ンク吸引、 若し く はイ ンクジェ ッ ト記 録へッ ドのィ ンク供給経路に設けられた適宜の加圧手段 （不図示） によるイ ンク圧送が行われる。 これにより、 イ ンクを吐出口から強 制的に排出させて、 吐出口内方の增粘ィ ンク等の異物を除去すると いつた回復処理がなされる。
    [0049] 3 3 0 は回復装置 3 2 6の側面に配設され、 シリ コ ンゴムで形成 されたワイ ビング用部材としてのブレー ドであ-る。 このブレー ド 3 3 0はブレ— ド保持部材 3 3 0 Aに片持ち梁形態で保持され、 回 復装置 3 2 6 と同様、 モータ 3 2 2および伝動機構 3 2 3 によって 動诈して、 ィ ンクジヱ ッ ト記録へッ ド 3 2 0の吐出口面との係合が 可能となる。 これにより、 例えばィ ンクジエ ツ ト記録へッ ド 3 2 0 の記録動作中の適切なタイ ミ ングで、 或いは回復装置 3 2 6を用い た回復処理の後等に、 イ ンクジェッ ト記録へッ ド 3 2 0の移動範囲 中にブレー ド 3 3 0を突出させ、 ィ ンクジエ ツ ト記録へッ ド 3 2 0 の移動動作に伴って、 イ ンクジヱ ッ ト記録へッ ド 3 2 0の吐岀ロ面 に付着した結露、 濡れ或いば塵埃等の異物をふきとることができる。
    [0050] このイ ンク ジ.ュ ッ ト記録装置の記録紙搬送手段、 キヤ リ ッ ジ及び 回復装置の駆動、 更に記録へッ ドの駆動等は、 例えば装置本体側の C P Uを含む制御手段より出力された命令、 信号に基づいて制櫛さ れる。 第 6図は、 フルライ ン型ィ ンクジヱ ッ ト記録へッ ド 3 2が搭載さ れたイ ンクジ ッ ト記録装置の概略を示す模式的斜視図である。 本 図において、 6 5 は紙などの被記録部材を搬送するための搬送ベル トである。 この搬送ベル ト 6 5 は、 搬送ローラ 6 4の回転に伴って 不図示の被記録部材を搬送する。 イ ンクジュ ッ ト記録ヘッ ド 3 2の 下面は、 被記録部材の記録領域に対応して吐出口が複数配された吐 出口面 3 1 である。 実施例 1
    [0051] レジス ト と してポジ型感光性樹脂フ ィ ルム ( 0 Z A T E C R 2 2 5 ： 商品名、 へキス ト ジャパン㈱製） を用い、 1 0 0 ΐにおい て 3 kgノ CD!の圧力でガラス基板上にラ ミネー ト した。 次いで第 2図 に示したフ ォ トマスク 2 0を用いてレジス 卜に対して高圧水銀灯に よる 3 0 O m J Z crf のパター ン露光を行い、 線径 2 0 〃 mのバター ン潜像をレジス トに形成した。 尚、 第 2図はフォ トマスクの一例を 示す模式的上面図であり、 同図において符号 2 1 は光を遮断する遮 光部である。 続いて 1 1 0 でで 1 0分間の熱処理をレジス トに対し て行った。
    [0052] 次に、 第 1図のレジス ト除去装置の固定台 3 にレジス トが設けら れた基材を固定した。 除去液 （現像液） として 3 % N a 0 H水溶液 を用い、 ポンプ 7による循環流量を 2 Z分とした。 ガスとしては 窒素ガスを用いた。 除去液 （現像液） と窒素ガスとを体積比】 ： 1 で混合させ、 この気液混合物をレジス トに対して 1 kg Z crf の噴射圧 力で噴射させて現像を行った。 続いて純水でリ ンスを行い、 しかる 後自然乾燥させた。
    [0053] 本例では、 以上の処理を 1 0個のサンプルについて行った。 各サ ンブルについてレジス トの除去状況を調べ、 総合結果 （現像時間は 1 0個のサンプルの平均値） を第 1 表に示した。 第 1表から明らか なように、 本実施例では除去時間が短く て済み、 未露光部の膨澗ゃ 溶解もなく、 シミ も発生していないことが確認できた。 実施例 I
    [0054] 除去液 （現像液） と窒素ガスとを 1秒間隔で交互に 1 kg , erfの噴 射圧力でレジス トに対して噴射させて現像を行う ことを除いて、 実 施例 1 と同様の処理を行った。
    [0055] 本例でも、 1 0倔のサンプルについて処理を行った。 各サンプル についてレジス トの除去状況を調べ、 総合結果 （現像時間は 1 0偭 のサンプルの平均値） を第 1表に示した。 本実施例でも優れた結果 が得られた。 実施例 3
    [0056] レジス トとしてポジ型感光性樹脂 （0 F P R 8 0 0 ： 商品名、 東 京応化工業㈱製） を用い、 ロールコーターで膜厚 1. 3 inになるよ うに塗布した後、 9 0 ·(：において 3 0分プリ べ一クを行った。 次 いで第 2図に示したフォ トマスク 2 0を用いてレジス 卜に対して 5 0 0 0 m J / crf のパターン露光を行い、 線径 2 0 mのパターン 潜像をレジス 卜に形成した。
    [0057] スプレー現像機 （和泉製作所㈱製） を用い、 N M D - 3 (商品名、 東京応化工業㈱製） を 0. 2 kg αίの圧力でレジス トに対してスブレ —して現像を行った。 次いで純水でリ ンスを行い、 しかる後自然乾 燥させた。 更に基板に対する レジス トの密着力を向上させるために、 1 2 0 でで 3 0分ボス 卜べ一クを行った。
    [0058] 次に、 第 1図のレジス ト除去装置の固定台 3にレジス トが設けら れた基材を固定した。 除去液（剝離液）として 「剝離液— 1 1 6 5」 ( ： 商品名、 シップレイ㈱製） を用い、 ポンブ 7による循環流量を 2 Ζ分とした。 ガスとしては窒素ガスを用いた。 除去液 （剝離液） と窒素ガスとを体積比 1 ： 1 で混合させ、 この気液混合物をレジス トに対して 1. 5 kg Z cm'の噴射圧力で噴射させて剝離を行った。 続い て純水でリ ンスを行い、 しかる後自然乾燥させた。
    [0059] 本例でも、 以上の処理を 1 0個のサンプルについて行った。 各サ ンプルについてレジス トの除去状況を調べ、 総合結果 （剝離時間は 1 0個のサンブルの平均値） を第 2表に示した。 第 2表から明らか なように、 本実施例では除去時間が短く て済み、 シ ミ も発生してい ないことが確認された。 実施例 4
    [0060] 除去液 （剝離液） と窒素ガスとを 1秒間隔で交互に 1. 5 kg Z crf の 噴射圧力でレジス トに対して噴射させて剝離を行う ことを除いて、 実施例 3 と同様の処理を行った。
    [0061] 本例でも、 1 0個のサンプルについて処理を行った。 各サンプル についてレジス トの除去状況を調べ、 総合結果 （剝離時間は 1 0個 のサンプルの平均値） を第 2表に示した。 本実施例でも優れた結果 が得られた。 実施例 5
    [0062] レジス ト と してポジ型感光性樹脂フ ィ ルム 0 Z A T E C R
    [0063] 2 2 5 (商品名、 へキス ト ジャバン㈱製） を用い、 1 0 0 におい て 3 kg / crf の圧力でガラス基板上にラ ミネー ト した。 次いで第 2図 に示したフォ トマスクを用いてレジス トに対して高圧水銀灯による
    [0064] 3 0 O m J Z crf のバターン露光を行い、 線径 2 0 のパター ン潜 像をレジス トに形成した。 続いて 1 1 0 でで 1 0分間の熱処理をレ ジス トに対して行った。
    [0065] 次に、 第 3図のレジス ト除去装置の固定台 3にレジス トが設けら れた基材を固定した。 除去液 （現像液） として 3 % N a O H水溶液 を用い、 ボンブ 7による循環流量を 2 ノ分とした。 ガスとしては 窒素ガスを用いた。 ポンプ 1 3 によって除去槽 1 の内部を 1 O m m H gに減圧させ、 この状態で除去液 （現像液） と窒素ガスとを体積 hi 1 ： 〗 で混合させ、 この気液混合物をレジス トに対して 1 kg Z oi の噴射圧力で噴射させて現像を行った。 続いて純水でリ ンスを行い しかる後自然乾燥させた。
    [0066] 本例でも、 以上の処理を 1 0個のサンプルについて行った。 各サ ンプルについてレジス トの除去状況を調べ、 総合結果 （現像時間は 1 0個のサンプルの平均値） を第 1表に示した。 第 1表から明らか なように、 本実施例では除去時間が短く て済み、 未露光部の膨澗ゃ 溶解もなく、 シミも発生していないことが確認できた。 実施例 6
    [0067] 除去液 （現像液） と窒素ガスとを 1秒間隔で交互に ί kg /' oiの噴 射圧力でレジス トに対して噴射させて現像を行う ことを除いて、 実 施例 5 と同様の処理を行った。
    [0068] 本例でも、 1 0個のサンプルについて処理を行った。 各サンプル についてレジス トの除去状況を調べ、 総合結果 （現像時間は 1 0個 のサンプルの平均値） を第 1表に示した。 本実施例でも優れた結果 が得られた。 実施例 7
    [0069] レジス ト としてポジ型感光性樹脂 0 F P R 8 0 0 (商品名、 東 京応化工業㈱製） を用い、 ロールコータ—で膜厚 1. 3 mになる ように塗布した後、 9 0 'Cにおいて 3 0分プリ べ—クを行った。 次いで第 2図に示したフォ トマスク 2 0を用いてレジス トに対して 5 0 0 O m J Z erf のパターン露光を行い、 線径 2 0 / mのパター ン 潜像をレジス トに形成した。
    [0070] スプレー現像機 （和泉製作所㈱製） を用い、 N M D - 3 (商品名、 東京応化工業㈱製） を 0. 2 kg Z oiの圧力でレジス トに対してスプレ 一して現像を行った。 次いで純水でリ ンスを行い、 しかる後自然乾 燥させた。 更に基板に対するレジス トの密着力を向上させるために、 1 2 0 'cで 3 0分ボス 卜べ一クを行った。
    [0071] 次に、 第 3図のレジス ト除去装置の固定台 3 にレジス トが設けら れた基材を固定した。 除去液 （剝離液） として剝離液— 1 1 6 5 (商品名、 シ ップレイ ㈱製） を用い、 ポンプ 7 による循環流量を 2 ノ分とした。 ガスとしては窒素ガスを用いた。 ポンプ 1 3によ つて除去槽 1 の内部を 1 O m m H gに減圧させ、 この状態で除去液 (剝離液） と窒素ガスとを体積比 1 ： 1 で混合させ、 この気液混合 物をレジス トに対して 1. 5 kg Z d!の噴射圧力で噴射させて剝離を行 つた。 続いて純水でリ ンスを行い、 しかる後自然乾燥させた。
    [0072] 本例でも、 以上の処理を 1 0個のサンプルについて行った。 各サ ンプルについてレジス トの除去状況を調べ、 総合結果 （剝離時間は 1 0個のサンプルの平均値） を第 2表に示した。 第 2表から明らか なように、 本実施例では除去時間が短く て済み、 シミ も発生してい ないことが確認された。 実施例 8
    [0073] 除去液 （剝離液） と窒素ガスとを 1秒間隔で交互に 1. 5 kg Z diの 噴射圧力でレジス トに対して噴射させて剝離を行う ことを除いて、 実施例 7 と同様の処理を行った。
    [0074] 本例でも、 1 0個のサンプルについて処理を行った。 各サンプル についてレジス トの除去状況を調べ、 総合結果 （剝離時間は 1 0個 のサンプルの平均値〉 を第 2表に示した。 本実施例でも優れた結果 が得られた。 実施例 9
    [0075] 現像工程における除去槽 1 の内部の圧力を、 1 O m m H g と 5 0 m m H g との間で 1分周期で連続的に変化させることを除いて、 実 施例 5 と同様の処理を行った。
    [0076] 本例でも、 1 0個のサンブルについて処理を行った。 各サンプル についてレジス トの除去状況を調べたところ、 一層優れた結果が得 られた。 実施例 1 0
    [0077] 剝離工程における除去樽 1の内部の圧力を、 1 0 m m H g と 5 0 m m H gとの間で 1分周期で連続的に変化させることを除いて、 実 施例 7 と同様の処理を行った。
    [0078] 本例でも、 1 0個のサンプルについて処理を行った。 各サンプル についてレジス トの除去状況を調べたところ、 一層優れた結果が得 られた。 比較例 1
    [0079] ガスを用いずに除去液 （現像液） のみを 1 te Z crfの噴射圧力でレ ジス トに対して噴射させて現像を行う ことを除いて、 実施例 1 と同 様の処理を行った。
    [0080] 本例でも、 1 0橱のサンプルについて処理を行った。 各サンプル についてレジス トの除去状況を調べ、 絵合結果 （現像時藺は 1 0個 のサンプルの平均値） を第 1表に示した。 比較例 2
    [0081] スプレー現像機 （和泉製作所棵製) を用いて除去液 （現像液） を 1 kg Ζ αίの噴射圧力でレジス トに対してスブレーして現像を行う こ とを除いて、 実施例 1 と同様の処理を行った。
    [0082] 本例でも、 1 0個のサンプルについて処理を行った。 各サンプル についてレジス トの除去状況を調べ、 総合結果 （現像時間は 1 0倔 のサンプルの平均値） を第 1表に示した。 比較例 3
    [0083] ガスを用いずに除去液 （剝離液） のみを 1. 5 te crfの噴射圧力で レジス トに対して噴射させて剝離を行う ことを除いて、 実施例 3 と 同様の処理を行つた。
    [0084] 本例でも、 1 0個のサンブルについて処理を行った。 各サンプル についてレジス トの除去状況を調べ、 総合結果 （剝離時間は 1 0個 のサンブルの平均値） を第 2表に示した《 比較例 4
    [0085] スプレー現像機 （和泉製作所㈱製） を用いて除去液 （剝離液） を 1. 5 kgノ crf の噴射圧力でレジス トに対してスプレーして剝離を行う ことを除いて、 実施例 3 と同様の処理を行った。
    [0086] 本例でも、 1 0個のサンプルについて処理を行った。 各サンプル についてレジス トの除去状況を調べ、 総合結果 （剥離時間は 1 0個 のサンプルの平均値） を第 2表に示した。 第 1 表
    [0087]
    [0088] 注） * 1 ： 露光部のレジス トがな く なるまでの時間 2 表
    [0089]
    [0090] 注） * 2 ： 現像後のパターン （未露光部） がなく なるまでの時間 応用例 1
    [0091] 第 4 ( A) 図〜第 4 (F ) 図に模式的に示された製造手順に従つ て、 本発明に係るレジス ト除去を適用してイ ンクジェ ッ ト記録へッ ドを製遣した。
    [0092] 先ず、 第 4 (A)図に示されるように、 イ ンクを吐出するために利 用されるエネルギーを発生するエネルギー発生体 4 1 として、 熱ェ ネルギーを癸生する電気熱変換体が形成されたガラス基板 4 0を用 意した。 次に、 第 4 ( B )図に示されるように、 ガラス基板 4 0上に レジス トとしてポジ型感光性樹脂フイルム O Z A T E C R 2 2 5
    [0093] (商 ira名 へキス トジャパン㈱製） からなる厚さ 5 0 mの感光性 樹脂層 4 2を 1 0 0 でにおいて 3 kg Z crfの圧力でラ ミネー ト した。
    [0094] この感光性樹脂層 4 2 に不図示のフォ トマスクを重ね、 イ ンクの 通路の形成予定部位を除く部位に 7 0 m J /erfの紫外線照射を行い 第 4 ( C) 図に点線で示される潜像 4 3 aを感光性樹脂層 4 2に形 成した。 次に、 第 1図のレジス ト除去装置の固定台 3に、 噴射ノ ズ ル 4から噴射される気液混合物が供給口側から吐出口側へスムーズ に流れるように、 吐出口側を上に向けて少し斜めに傾かせた状態に 基板 4 0を固定した。 除去液 （現像液） として 1 % N a 0 H水溶液 を用い、 ポンプ 7による循環流量を 2 & /分とした。 ガスとしては 窒素ガスを用いた。 除去液 （現像液） と窒素ガスとを体積比 1 ： 1 で混合させ、 この気液混合物を感光性樹脂層 4 2に対して 1 kg / crf の噴射圧力で噴射させ、 第 4 ( D ) 図に示されるように現像を行つ た。 続いて純水でリ ンスを行い、 しかる後自然乾燥させた。
    [0095] 次いで、 第 4 ( E )図に示されるように、 現像処理がなされたバタ 一ン状の感光性樹脂層 4 3を覆うようにして、 イ ンクの通路の壁を 形成するための通路壁形成材料 4 4 として A R A L D I T E C Y 2 3 0 / Η Υ 9 5 6 (商品名、 チバ ガイギ㈱製） をアプリケータ 一を用いて 1 0 0 «" ΐηの厚さに塗布した。 3 0 でで 1 2時間放置し て通路壁形成材料 4 4を硬化させた後、 基板の両面側から 3 0 0 0 m Jノ erfの紫外線を照射してバタ一ン状の感光性樹脂層 4 3を可溶 化させた。
    [0096] 次に、 供給口 4 5を切削によって形成した第 1図のレジス ト除去 装置の固定台 3に、 噴射ノ ズル 4から噴射される気液混合物が供給 口側から吐出口側へスムーズに流れるように、 吐出口側を上に向け て少し斜めに傾かせた状態に基板 4 0を固定した。 除去液 （剝離液） として 5 % N a O H水溶液を用い、 ポンプ 7による循環流量を 2 £ ノ分とした。 ガスとしては窒素ガスを用いた。 除去液 （剝離液） と 窒素ガスとを体積比 1 ： 1 で混合させ、 この気液混合物をバタ—ン 状の感光性樹脂層 4 3に対して 1. 5 kg Z cn!の噴射圧力で噴射させて 剝離を行った。 続いて純水でリ ンスを行い、 しかる後自然乾燥させ た。 このようにして、 第 4 ( F ) 図に模式的に示されるイ ンク ジェ ッ ト記録へッ ドを得た。 このイ ンク ジエ ツ ト記録ヘッ ドは 5 0 m X 5 0 mの矩形状の吐出口 4 6 aを有し、 図面には二つずつしか 記載されていないが、 実際には 1 2 8個の吐出口とそれに連通する イ ンクの通路 4 6 とそれらに対応した数の電気熱変換体とを有する ものであった。
    [0097] このイ ンクジエ ツ ト記録へッ ドのイ ンクの通路中には感光性樹脂 層の残渣が全く存在せず、 ィ ンクの通路の形状及び寸法の精度も優 れたものであった。 更にこのイ ンクジエ ツ ト記録へッ ドを第 5図に 示されたィ ンクジヱ ッ ト記録装置に装着して実際にィ ンクを吐出し たところ、 吐出特性が総合的に優れた安定的な記録を長期間にわた つて行う ことができた。 応用例 2
    [0098] 第 4 ( C ) 図までは応用例 1 と同様に行った。
    [0099] 次に、 第 1図のレジス ト除去装置の固定台 3に、 噴射ノズル 4か ら噴射される除去液とガスが供給口側から吐出口側へスムーズに流 れるように、 吐出口側を上に向かせて少し斜めに傾かせた状態に基 板 4 0を固定した。 除去液 （現像液） として 1 % N a 0 H水溶液を 用い、 ポンプ 7による循環流量を 2 SLノ分とした。 ガスとしては窒 素ガスを用いた。 除去液 （現像液） と窒素ガスとを 1秒間隔で交互 に感光性樹脂層 4 2に対して 1 kg / ciの噴射圧力で噴射させ、 第 4 ( D ) 図に示されるように現像を行った。 続いて純水でリ ンスを行 い、 しかる後自然乾燥させた。
    [0100] 次いで、 第 4 ( E )図に示されるように、 現像処理がなされたバタ 一ン状の感光性樹脂層 4 3を覆うようにして、 イ ンクの通路の壁を 形成するための通路壁形成材料 4 4 として A R A L D I T E C Y 2 3 0 / Η Υ 9 5 6 (商品名、 チバ ガイギ㈱製) をアプリケ―タ —を用いて 1 0 0 mの厚さに塗布した。 3 0 でで 1 2時間放置し て通路壁形成材料 4 4を硬化させた後、 基板の両面側から 3 0 0 0 m J / oiの紫外線を照射してパターン状の感光性樹脂層 4 3を可溶 化させた。
    [0101] 次に、 供給口 4 5を切削によって形成した後、 第 1図のレジス ト 除 *装置の画定台 3に、 噴射ノ ズル 4から噴射される除去液とガス が供給口側から吐出口側へスムーズに流れるよう に、 吐出口側を 上に向かせて少し斜めに傾かせた状態に基板 4 0を固定した。 除去 液 （剝離液） と して 5 % N a 0 H水溶液を用い、 ポンプ 7 による循 環流量を 2 /分とした。 ガスとしては窒素ガスを用いた。 除去液 (剝離液） と窒素ガスとを 1秒間隔で交互にパター ン状の感光性樹 脂層 4 3に対して 1. 5 kgノ αίの噴射圧力で噴射させて剝離を行つた, 続いて純水でリ ンスを行い、 しかる後自然乾燥させた。 このように して、 第 4 ( F ) 図に模式的に示されるィ ンクジヱ ッ ト記録へッ ド を得た。 このィ ンク ジエ ツ ト記録へッ ドは 5 0 ju m X 5 0 〃 mの矩 形状の吐出口 4 6 aを有し、 図面には二つずつしか記載されていな いが、 実際には 1 2 8個の吐出口とそれに連通するィ ンク の通路 i 6 とそれらに対応した数の電気熱変換体とを有するものであつ た。
    [0102] このィ ンク ジエ ツ ト記録へッ ドのィ ンクの通路中にも感光性樹脂 層の残渣が全く存在せず、 イ ンクの通路の形状及び寸法の精度も優 れたものであった。 更にこのイ ンクジヱ ッ ト記録へッ ドを第 5図に 示されたイ ンクジヱ ッ ト記録装置に装着して実際にィ ンクを吐出し たところ、 吐出特性が総合的に優れた安定的な記録を長期間にわた つて行う ことができた。 応用例 3
    [0103] 第 4 ( C ) 図までは応用例 1 と同様に行った。
    [0104] 次に、 第 1図のレジス ト除丟装置の固定台 3 に、 噴射ノ ズル 4か ら噴射される気液混合物が供給口側から吐出口側へスム一ズに流れ るように、 吐出口側を上に向けて少し斜めに傾かせた状態に基板 4 0を固定した。 除去液（現像液）として l % N a O H水溶液を用い、 ポンプ 7 による循環流量を 2 分とした。 ガスとしては窒素ガス を用いた。 ポンプ 1 3 によって除去槽 1 の内部を 1 0 m m H gに滅 圧させ、 この状態で除去液 （現像液） と窒素ガスとを体積比 1 ： 1 で混合させ、 この気液混合物を感光性樹脂層 4 2に対して 1 kgZcm' の噴射圧力で噴射させ、 第 4 ( D ) 図に示されるように現像を行つ た。 続いて純水でリ ンスを行い、 しかる後自然乾燥させた。
    [0105] 次いで、 第 4 (E)図に示されるように、 現像処理がなされたパタ 一ン状の感光性樹脂層 4 3を覆うようにして、 イ ンクの通路の壁を 形成するための通路壁形成材料 4 4 として A R A L D I T E C Y 2 3 0 / H Y 9 5 6 (商品名、 チバ ガイギ㈱製） をアプリケ―タ 一を用いて 1 0 0 μ mの厚さに塗布した。 3 0 でで 1 2時間放置し て通路壁形成材料 4 4を硬化させた後、 基板の雨面側から 3 0 0 0 m J Zedの紫外線を照射してバタ—ン状の感光性樹脂層 4 3を可溶 化させた。
    [0106] 次に、 供給口 4 5を切削によって形成した後、 第 1図のレジス ト 除去装置の固定台 3 に、 噴射ノ ズル 4から噴射される気液混合物が 供給口側から吐出口側へスムーズに流れるように、 吐出口側を上に 向けて少し斜めに傾かせた状態に基板 4 0を固定した。 除去液 （剝 離液） として 5 % N a 0 H水溶液を用い、 ポンプ 7による循環流量 を 2 ^ Z分とした。 ガスとしては窒素ガスを用いた。 ボンプ 1 3 に よって除去槽 1 の内部を 1 O mm H gに減圧させ、 この状態で除去 液 （剝離液） と窒素ガスとを体積比 1 ： 1で混合させ、 この気液混 合物をバタ—ン状の感光性樹脂層 4 3に対して 1. 5 teZoiの噴射圧 力で噴射させて剝離を行った。 続いて純水でリ ンスを行い、 しかる 後自然乾燥させた。 このようにして、 第 4 ( F ) 図に模式的に示さ れるィ ンクジエ ツ ト記録へッ ドを得た。 このィ ンクジエ ツ ト記録へ ッ ドは 5 0 m X 5 0 ；" mの矩形状の吐出口 4 6 aを有し、 図面に は二つずつしか記載されていないが、 実際には 1 2 8個の吐出口と それに連通するィ ンクの通路 4 6 とそれらに対応した数の電気熱変 換体とを有するものであった。
    [0107] このイ ンク ジエ ツ ト記録ヘッ ドのイ ンクの通路中にも感光性樹脂 層の残渣が全く存在せず、 ィ ンクの通路の形状及び寸法の精度も優 れたものであった。 更にこのィ ンクジヱ ッ ト記録へッ ドを第 5図に 示されたイ ンクジヱ ッ ト記録装置に装着して実際にィ ンクを吐出し たところ、 吐出特性が総合的に優れた安定的な記録を長期間にわた つて行う ことができた。 応用例 4
    [0108] 第 4 ( C ) 図までは応用例 1 と同様に行った。
    [0109] 次に、 第 1図のレジス ト除去装置の固定台 3 に、 噴射ノ ズル 4か ら噴射される除去液とガスが供袷口側から吐出口側へスムーズに流 れるように、 吐出口側を上に向かせて少し斜めに傾かせた状態に基 板 4 0を固定した。 除去液（現像液）と して l % N a O H水溶液を用 い、 ポンプ 7による循環流量を 2 ノ分とした。 ガスとしては窒素 ガスを用いた。 ポンプ 1 3 によって除去槽 1 の内部を 1 O m m H g に滅圧させ、 この状態で除去液 （現像液） と窒素ガスとを 1秒間隔 で交互に感光性樹脂層 4 2に対して 1 kgノ crf の噴射圧力で噴射させ. 第 4 ( D ) 図に示されるように現像を行った。 続いて純水でリ ンス を行い、 しかる後自然乾燥させた。
    [0110] 次いで、 第 4 ( E )図に示されるように、 現像処理がなされたバタ 一ン状の感光性樹脂層 4 3を覆うようにして、 イ ンクの通路の壁を 形成するための通路壁形成材料 4 4 と して A R A L D I T E C Y 2 3 0 / Η Υ 9 5 6 (商品名、 チバ ガイギ㈱製） をアプリケ―タ —を用いて 1 0 0 の厚さに塗布した。 3 0 でで 1 2時間放置し て通路壁形成材料 4 4を硬化させた後、 基板の両面側から 3 0 0 0 m J / erfの紫外線を照射してパターン状の感光性樹脂層 4 3を可溶 化させた。
    [0111] 次に、 供給口 4 5を切削によって形成した後、 第 1図のレジス ト 除去装置の固定台 3に、 噴射ノ ズル 4から噴射される除去液とガス が供給口側から吐出口側へスム—ズに流れるように、 吐出口側を上 に向かせて少し斜めに傾かせた状態に基板 4 0を固定した。 除去液 (剝離液）として 5 % N a O H水溶液を用い、 ポンプ 7による循環流 量を 2 ^ /分とした。 ガスとしては窒素ガスを用いた。 ボンプ 1 3 によって除去橹 1 の内部を 1 O nim H gに減圧させ、 この状態で除 去液 （剝離液） と窒素ガスとを 1秒間隔で交互にパターン状の感光 性樹脂層 4 3に対して 1. 5 kg Zcrfの噴射圧力で噴射させて剝離を行 つた。 続いて純水でリ ンスを行い、 しかる後自然乾燥させた。 この ようにして、 第 4 (F )図に模式的に示されるイ ンクジヱ ッ ト記録へ ッ ドを得た。 このィ ンクジエ ツ ト記錄へッ ドは 5 0 μ m x 5 0 μ m の矩形状の吐出口 4 6 aを有し、 図面には二つずつしか記載されて いないが、 実際には 1 2 8偭の吐出口とそれに連通するイ ンクの通 路 " とそれらに対応した数の電気熱変換体とを有するものであつ
    [0112] †，
    [0113] このィ ンクジエツ ト記録へッ ドのィ ンクの通路中にも感光性樹脂 層の残渣が全く存在せず、 イ ンクの通路の形状及び寸法の精度も優 れたものであった。 更にこのィ ンク ジエ ツ ト記録へッ ドを第 5図に 示されたイ ンクジヱ ッ ト記録装置に装着して実際にィ ンクを吐出し たところ、 吐出特性が総合的に優れた安定的な記録を長期間にわた つて行う ことができた。 応用例 5
    [0114] 現像工程における除去槽 1 の内部の圧力を、 l O m m H gと 5 0 mm H gとの間で 1分周期で連続的に変化させることを除いて、 応 用例 3 と同様の処理を行った。
    [0115] このイ ンクジュ ッ ト記録へッ ドのィ ンクの通路中にも感光性樹脂 層の残渣が全く存在せず、 イ ンクの通路の形状及び寸法の精度も一 層優れたもので ¾つた。 更にこのイ ンクジエ ツ ト記録へッ ドを第 5 図に示されたイ ンクジヱ ッ ト記録装置に装着して実際にィ ンクを吐 出したところ、 吐出特性が総合的に一層優れた安定的な記録を長期 間にわたって行う ことができた。 応用例 6
    [0116] 剝離工程における除去槽 1 の内部の圧力を、 1 O m m H g と 5 0 m m H g との間で 1分周期で連続的に変化させることを除いて、 応 用例 4 と同様の処理を行った。
    [0117] このイ ンクジュ ッ ト記録ヘッ ドのイ ンクの通路中にも感光性樹脂 層の残渣が全く存在せず、 ィ ンク の通路の形状及び寸法の精度も一 層優れたものであった。 更にこのイ ンクジヱ ッ ト記録へッ ドを第 5 図に示されたィ ンクジュ ッ ト記録装置に装着して実際にィ ンクを吐 出したところ、 吐出特性が総合的に一層優れた安定的な記録を長期 間にわたって行う ことができた。 図面の簡単な説明
    [0118] 第 1図は、 本発明の実施態様に係るレジス ト除去装置を示す模式 図である。
    [0119] 第 2図は、 フォ トマスク の一例を示す模式的上面図である。
    [0120] 第 3図は、 本発明の別の実施態様の一つに係る レジス ト除去装置 を示す模式図である。
    [0121] 第 4 ( A ) 図〜第 4 ( F ) 図は、 本発明に係る レジス ト除去を適 用してイ ンクジ ッ ト記録へッ ドを製造する応用例を説明するため の模式的斜視工程図である。
    [0122] 第 5図は、 イ ンク ジュ ッ ト記録装置の一例の主要部を示す模式的 斜視図である。
    [0123] 第 6図は、 フルラ イ ン型イ ンク ジェ ッ ト記録へッ ドが搭載された イ ンク ジュ ッ ト記錄装置の概略を示す模式的斜視図である。
    权利要求:
    Claims 請求 の 範面
    (1 ) レジス ト除去用液とガスとを混合してレジス トに噴射すること によってレジス トを除去する ことを特徴とする レジス 卜の除去方 法。
    (2) 前記レジス トの除去が大気圧より低い減圧下でなされる請求項 (1 )に記載のレジス トの除去方法。
    (3) 前記減圧の状態が実質的に真空の状態から 4 0 0 m m H gの圧 力状態までの間の状態である請求項（2)に記載のレジス トの除ま 方法。
    (4) 前記減圧の状態の圧力を経過時間に応じて変化させる請求項（2) に記載のレジス トの除去方法。
    (5) 前記レジス ト除去用液と前記ガスとの体積比を 1 ： 1 0 0 〜
    1 0 0 ： 1 の範囲内として前記混合を行う請求項（1 )に記載のレ ジス トの除去方法。
    (6) 前記レジス トを噴射する圧力が 0. 0 1 kg Z en！〜 1 0 te / c の範 囲内である請求項（1 )に記載のレジス 卜の除去方法。
    (7) 前記ガスが不活性ガスである請求項（1 )に記載のレジス 卜の除 去方法。
    (8) 前記不活性ガスがヘリ ウム、 ネオン及びアルゴンの中から選択 される少なく とも一つである請求項（7)に記載のレジス トの除丟 方法。
    (9) 前記ガスが窒素である請求項（1)に記載のレジス トの除去方法。
    (10)前記除去される レジス トがイ ンクジェ ッ ト記録へッ ドのイ ンク の通路に対応するものである請求項（1) に記載のレジス トの除去 方法。
    (11 )前記除去される レジス 卜がポジ型の感光性樹脂である請求項 (10)に記載のレジス トの除去方法。
    (12)前記噴射の方向が、 前記ィ ンク ジェ ッ ト記録へッ ドの供給口側 から吐出口側へ向かう方向である請求項（10)に記載のレジス トの 除去方法。
    (13)ィ ンクを吐出するために利用される熱エネルギーを発生する電 気熱変換体が前記通路に対応して設けられている請求項（10)に記 載のレジス トの除去方法。
    (14)レジス ト除去用液とガスとを交互にレジス トに噴射する こ とに よってレジス トを除去することを特徴とする レジス トの除去方法
    (15)前記レジス トの除去が大気圧より低い減圧下でなされる請求項
    (14)に記載のレジス トの除去方法。
    (16)前記減圧の状態が実質的に真空の状態から 4 0 0 mm H gの圧 力状態までの間の状態である請求項（15)に記載のレジス トの除去 方法。
    (17)前記減圧の状態の圧力を経過時間に応じて変化させる請求項
    (15)に記載のレジス トの除去方法。
    (18)前記レジス ト除去用液と前記ガスとの体積比を 1 ： 1 0 0 〜
    1 0 0 ： 1 の範囲内として前記混合を行う請求項（14)に記載のレ ジス トの除去方法。
    (19)前記レジス トを噴射する圧力が 0. 0 1 /01〜 1 0 // ^の範 囲内である請求項（14)に記載のレジス トの除去方法。
    (20)前記ガスが不活性ガスである請求項（14)に記載のレジス トの除 去方法。
    (21)前記不活性ガスがヘリ ゥム、 ネオン及びアルゴンの中から選択 される少な く とも一つである請求項（20)に記載のレジス トの除去 方法。
    (22)前記ガスが窒素である請求項（14)に記載のレジス トの除去方法,
    (23)前記除去される レジス トがイ ンク ジェ ッ ト記録へッ ドのィ ンク の通路に対応するものである請求項（14)に記載のレジス トの除去 方法。
    (24)前記除去される レジス 卜がポジ型の感光性樹脂である請求項 (23)に記載のレジス トの除去方法。
    (25)前記噴射の方向が、 前記ィ ンクジュ ッ ト記録へッ ドの供給口側 から吐出口側へ向かう方向である請求項（23)に記載のレジス 卜の 除去方法。
    (26)レジス ト除去用液とガスとが交互に噴射される周期が 0. 1秒〜
    5. 0秒の範囲内である請求項（14)に記載のレジス トの除去方法。
    (27)ィ ンクを吐出するために利用される熱エネルギーを発生する電 気熱変換体が前記通路に対応して設けられている請求項（23)に記 載のレジス トの除去方法。
    (28)レジス ト除去用液とガスとを混合する混合手段と、
    該混合手段によって混合されたレジス ト除去用液とガスとをレ ジス トに対して噴射する手段と、
    を有することを特徴とするレジス トの除去装置。
    (29)レジス ト除去用液を供給する液供給手段と、
    ガスを供給するガス供給手段と、
    前記液供給手段と前記ガス供給手段とを切換えて動作させる切 換え手段と、 _ 該切換え手段の切換えによって前記レジス ト除去用液と前記ガ スとをレジス トに交互に噴射する手段と、
    を有することを特徴とするレジス トの除去装置。
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    同族专利:
    公开号 | 公开日
    US5443942A|1995-08-22|
    EP0512117A1|1992-11-11|
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    EP0512117B1|2000-02-02|
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    EP0512117A4|1993-03-17|
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    1992-06-11| AK| Designated states|Kind code of ref document: A1 Designated state(s): US |
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    1992-08-22| WWE| Wipo information: entry into national phase|Ref document number: 1991920804 Country of ref document: EP |
    1992-11-11| WWP| Wipo information: published in national office|Ref document number: 1991920804 Country of ref document: EP |
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    申请号 | 申请日 | 专利标题
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